3M Betapure™ NT-T滤芯采用改性尼龙亲水薄膜，极低离子析出，高精度0.1μm~1.0μm，专为光刻胶精细过滤设计

 3M Betapure™ NT-T滤芯（电子光刻胶行业）

产品参数：3M Betapure™ NT-T滤芯采用改性尼龙亲水薄膜，极低离子析出，高精度0.1μm~1.0μm，专为光刻胶精细过滤设计。高纯无金属材质，不含添加剂。3M Betapure™ NT-T滤芯耐有机溶剂，承压4.8bar，工作温度5~65℃，适配半导体光刻化学品制程。

性能特点：3M Betapure™ NT-T滤芯尼龙膜孔径均匀，拦截光刻胶凝胶、微颗粒、析出杂质，减少晶圆光刻缺陷。极低金属离子析出，满足半导体高纯度管控。3M Betapure™ NT-T滤芯耐酮类、酯类光刻溶剂，膜层不溶胀、无脱落，批次过滤一致性高。

储存、运输、包装：3M Betapure™ NT-T滤芯无尘密封冷藏储存，避光防潮，远离强腐蚀溶剂。运输防静电防震，真空铝箔无菌封装，附带离子检测报告，适配半导体洁净室入库。

应用场景：3M Betapure™ NT-T滤芯用于光刻胶原液、显影液、剥离液终端精密过滤，去除微量杂质，保障光刻图案清晰度，提升芯片良率。

安装、操作与更换维护：ISO7洁净室内拆封3M Betapure™ NT-T滤芯，无尘安装耐腐蚀滤壳，低速排气通液。光刻缺陷率上升、压差爬升时更换3M Betapure™ NT-T滤芯。更换专用溶剂清洗管路，禁止高温超压运行。

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